第七届国际先进光刻技术研讨会将于10月25-26日举办

  • 日期:2023-09-27
  • 1922

      为进一步推动我国集成电路产业的迅速发展,由中国科学院大学集成电路学院韦亚一教授担任大会秘书并参与举办的国际先进光刻技术研讨会(IWAPS)自2017年以来已在全国各地成功举办六届。

      IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。研讨会的发言者均为特邀自集成电路制造相关领域的国内外资深专家,代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛,涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

      会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加,行业反响热烈,已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外,IWAPS自2020年起已被IEEE收录,接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名!

      第七届IWAPS将于2023年10月25-26日于浙江丽水温德姆酒店举行(浙江省丽水市莲都区丽青路129号),请于2023年10月24日报到。

      欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导, 参会名额有限,有意者请及时报名参会。

      会议网站:https://www.iwaps.org/cn/